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 您的位置:首頁(yè)  -  產(chǎn)品中心  -  儀表,電子設(shè)備  -  otsukael  -  SLS-6500HLotsukael靜態(tài)光散射光度計(jì) 照度計(jì) 紫外光譜儀
您的位置:首頁(yè)  -  產(chǎn)品中心  -  儀表,電子設(shè)備  -  otsukael  -  SLS-6500HLotsukael靜態(tài)光散射光度計(jì) 照度計(jì) 紫外光譜儀 
           
            
 
otsukael靜態(tài)光散射光度計(jì) 照度計(jì)SLS-6500HL的介紹絕對(duì)分子量、慣性半徑和第二維里系數(shù)可以使用靜態(tài)光散射法測(cè)量。可以進(jìn)行 Zimm plot、Berry plot、Zimm square root plot、單一濃度法 plot、Debye plot 等各種分析。確定膠束的總數(shù)。可選的棒狀樣品池支架可對(duì)光纖材料(散裝)進(jìn)行絕對(duì)散射強(qiáng)度測(cè)量。
 產(chǎn)品型號(hào):SLS-6500HL
產(chǎn)品型號(hào):SLS-6500HL 廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商 更新時(shí)間:2023-04-14
更新時(shí)間:2023-04-14 訪  問(wèn)  量:1042
訪  問(wèn)  量:1042 立即咨詢(xún)
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otsukael靜態(tài)光散射光度計(jì) 照度計(jì)SLS-6500HL的介紹
otsukael靜態(tài)光散射光度計(jì) 照度計(jì)SLS-6500HL的介紹
絕對(duì)分子量、慣性半徑和第二維里系數(shù)可以使用靜態(tài)光散射法測(cè)量。
可以進(jìn)行 Zimm plot、Berry plot、Zimm square root plot、單一濃度法 plot、Debye plot 等各種分析。
可選的棒狀樣品池支架可對(duì)光纖材料(散裝)進(jìn)行絕對(duì)散射強(qiáng)度測(cè)量。
膜厚測(cè)量范圍 1 nm 至 92 μm(SiO 2換算)
薄膜厚度值的高重復(fù)性
每點(diǎn)1秒以?xún)?nèi)的高速測(cè)量
圖案可瞄準(zhǔn)微小點(diǎn)(最小Φ3μm)
適用于圖案化晶圓的膜厚測(cè)繪
可以獲取用于圖案對(duì)齊的圖像
| 除了可以進(jìn)行高精度薄膜分析的分光橢圓偏光法外,它還通過(guò)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)可變測(cè)量角度機(jī)構(gòu)來(lái)兼容所有類(lèi)型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)分析器方法外,還通過(guò)為延遲板提供自動(dòng)安裝/拆卸機(jī)構(gòu)提高了測(cè)量精度。 | 
可在紫外-可見(jiàn)(300 至 800 nm)波長(zhǎng)范圍內(nèi)測(cè)量橢圓參數(shù)
能夠分析納米級(jí)多層薄膜的膜厚
通過(guò) 400 通道或更多通道的多通道光譜快速測(cè)量橢圓光譜
支持通過(guò)可變反射角測(cè)量對(duì)薄膜進(jìn)行詳細(xì)分析
通過(guò)創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)和添加配方注冊(cè)功能提高可操作性
橢圓參數(shù)(tanψ,cosΔ)測(cè)量
光學(xué)常數(shù)(n:折射率,k:消光系數(shù))分析
膜厚分析
半導(dǎo)體ウェーハ
ゲート酸化薄膜,窒化膜
SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe, BPSG,TiN
レジストの光學(xué)定數(shù)(波長(zhǎng)分散)
化合物半導(dǎo)體
AlxGa(1-x)As 多層膜,アモルファスシリコン
FPD
配向膜
各種新素材
DLC(Diamond Like Carbon),超伝導(dǎo)用薄膜,磁気ヘッド薄膜
光學(xué)薄膜
TiO2,SiO2,反射防止膜
リソグラフィー分野
g線(436nm),h線(405nm),i線(365nm)などの各波長(zhǎng)におけるn,k評(píng)価
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