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meijitechno 實體偏光顯微鏡 三目類型 EMZ-5TRH-POL-2/EMZ-8TRH-POL-2 介紹

更新時間:2026-01-19      瀏覽次數(shù):33

Meiji Techno 實體偏光三目顯微鏡EMZ-5TRH-POL-2 / EMZ-8TRH-POL-2 快速檔案光學主體• Greenough 實體斜變焦光路,立體感強、景深大• EMZ-5 系列:0.7×–4.5× 變焦(6.4:1),10×/FN22 高眼點目鏡• EMZ-8 系列:0.63×–5× 變焦(8:1),更長工作距離、更低倍寬場• 三目筒 50/50 分光,側(cè)邊 C-mount 可直接接相機,同步目視與拍攝偏光組件(POL-2 套件)• 透射/反射雙用 360° 旋轉(zhuǎn)起偏器(裝在聚光鏡下)• 360° 旋轉(zhuǎn)檢偏器(插在變倍體上方),最小讀數(shù) 0.1°• 插板式 λ 補償器(530 nm)、石英楔(1–4 λ)插槽,支持定量雙折射測量• 應(yīng)力退火 PLAN 偏光物鏡,保證消光比 ≤10??,圖像無彩色畸變機械與照明• 110/220 V 50/60 Hz 5 W LED 同軸/透射雙光源,色溫 5500 K,亮度連續(xù)可調(diào)• 粗微調(diào)一體化立柱支架,立桿高度 300 mm,工作距離 115 mm(1× 物鏡)• 可選大底座、透射平臺、反射照明器,兼容礦物/不透明樣品擴展能力• 物鏡螺紋 67 mm,可加 0.5×/2× 輔助物鏡,倍率覆蓋 0.35×–90ו C 接口帶 1×、0.67×、0.5× 縮小鏡,適配 1/3″–1″ 相機芯片• 可升級偏光熱臺(室溫–300 °C),觀察熔融/結(jié)晶過程典型參數(shù)(EMZ-5TRH-POL-2 示例)總倍率 7×–45×(標準 10× 目鏡),視場范圍 31.4 mm–4.9 mm工作距離 93 mm(1× 物鏡),分辨率 300 LP/mm瞳距 54–75 mm,屈光度補償 ±5 D應(yīng)用領(lǐng)域巖石/礦石薄片、煤巖、陶瓷應(yīng)力、高分子取向、半導體缺陷、藥物晶型、纖維鑒定、教學演示等——一切需要“立體形貌 + 偏光特性"同時觀察的場景。一句話:把 Greenough 體視的大景深和偏光顯微的高襯度合二為一,EMZ-5/8TRH-POL-2 讓“凹凸樣品"也能做專業(yè)定量偏光分析。

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