Super Blubber WAC 超純水帶電防止裝置Nomura NMS 超純水防靜電裝置

更新時間：2026-01-12

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Nomura NMS Super Blubber WAC 超純水帶電防止裝置該裝置是日本野村微電子科技（Nomura Micro Science）專為半導體和FPD制造領域開發的超純水電阻率精確控制系統，通過向超純水中定量溶解二氧化碳氣體來防止靜電危害。核心工作原理通過直接注入式將高純度二氧化碳精準溶解到超純水中，形成碳酸根離子，將電阻率控制在0.11-1.9MΩ·cm范圍內。這種方法能有效防止晶圓切割、清洗過程中的靜電放電損傷，同時避免微粒子因靜電吸附在晶圓表面，且烘干后二氧化碳揮發，無殘留污染

主要技術規格

| 參數項 | 規格范圍 |

| ----------- | ----------------------------------------- |

| 處理流量 | 200～1000L/h、200～2000L/h、300～3000L/h（三種規格） |

|控制電阻率范圍 | 0.11～1.9 MΩ·cm |

| 控制精度 | 設定值±0.03 MΩ·cm（流量/水壓穩定時） |

| 工作壓力 | 0.5 MPa |

| 壓力損失 | 3000L/h時僅0.06 MPa |

| 電源 | AC100～130V 或 AC220～240V，50/60Hz |

產品系列與尺寸1. 機架型（Rack type）尺寸: W480 × D430 × H250 mm特點: 可內置在清洗設備中，節省空間2. 機柜型（Cabinet type）尺寸: W430 × D430 × H1350 mm特點: 內置2個CO?氣瓶，獨立成套

核心優勢? 直接注入式設計：無排氣、無廢水，環保經濟? 快速響應：水量大幅變化時仍能迅速調整控制? 高精度控制：±0.03 MΩ·cm的穩定精度? 維護簡便：內置阻抗探頭，配管容易，可用3%雙氧水殺菌? 高可靠性：無需昂貴的CO?溶解膜等耗材應用領域半導體晶圓劃片/切割工序FPD（平板顯示）高壓清洗工程精密電子元件清洗制程任何需要防止超純水靜電危害的微電子制造環節

與傳統技術對比相比早期氣泡式或膜分離式技術，Super Blubber WAC采用直接注入溶解技術，避免了膜組件的損耗問題，大幅降低了運行成本，同時實現了更快的響應速度和更穩定的控制性能

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