日本DENSOKU 熒光X射線式膜厚計(jì) 介紹

更新時(shí)間：2025-10-15

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熒光X射線式膜厚計(jì)是一種利用X射線熒光技術(shù)，對(duì)材料表面的鍍層、涂層或薄膜厚度進(jìn)行非破壞性、高精度測量的高的端分析儀器。

其工作原理基于原子物理，過程如下：

X射線激發(fā)：儀器內(nèi)部的X射線管產(chǎn)生高能初級(jí)X射線，照射到被測樣品表面。
產(chǎn)生特征X射線：初級(jí)X射線將樣品中原子內(nèi)層的電子“擊飛"，形成空穴。此時(shí)，處于外層的高能電子會(huì)迅速躍遷來填充這個(gè)空穴，并同時(shí)釋放出具有特定能量的次級(jí)X射線，即 “特征X射線"或“熒光X射線"。每種元素所釋放的特征X射線能量都是獨(dú)的一的無的二的，如同人類的“指紋"。
信號(hào)探測與處理：高精度的探測器（如硅漂移探測器SDD）接收這些特征X射線信號(hào)。

定性分析：通過分析特征X射線的能量，確定樣品中含有哪些元素（例如，金Au、鎳Ni、錫Sn等）。
定量分析：通過測量特定元素特征X射線的強(qiáng)度（計(jì)數(shù)），來計(jì)算出該元素構(gòu)成的薄膜厚度。膜層越厚，該元素的熒光信號(hào)就越強(qiáng)。儀器內(nèi)置的軟件通過預(yù)先建立的校準(zhǔn)曲線，將強(qiáng)度值精確轉(zhuǎn)換為厚度值。

絕對(duì)非破壞性：測量過程不會(huì)接觸、損傷或污染樣品，測量后產(chǎn)品可完的全正常使用，適用于貴重品和成品的100%檢驗(yàn)。
極的高的精度和重復(fù)性：可輕松達(dá)到納米級(jí)甚至亞納米級(jí)的測量精度和重現(xiàn)性，是高的端質(zhì)量控制的有力保障。
多層/多元素同時(shí)測量：可一次性快速測量復(fù)雜的多層結(jié)構(gòu)。例如，可以同時(shí)測量PCB上“金-鎳-銅"基材的金層厚度和鎳層厚度。
廣泛的元素分析范圍：可測量從鎂到鈾的多種元素，覆蓋了幾乎所有工業(yè)鍍層材料，如Au， Ag， Sn， Ni， Cu， Cr， Zn， Pd等。
快速高效：通常單個(gè)測量點(diǎn)的分析時(shí)間在幾秒到一分鐘之內(nèi)，極大提升了檢測效率，適合生產(chǎn)線旁的快速抽檢或全檢。
操作智能化與簡便化：現(xiàn)代機(jī)型配備大型觸摸屏和直觀的圖形化操作軟件，操作人員經(jīng)過簡單培訓(xùn)即可上手。軟件通常具備自動(dòng)識(shí)別、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、統(tǒng)計(jì)分析和報(bào)告生成功能。

SEA系列：這是理學(xué)最的經(jīng)的典、市場認(rèn)可度極的高的系列。例如SEA1000A/SEA1200等型號(hào)，以其無的與的倫的比的穩(wěn)定性、精度和易用性成為電子電鍍行業(yè)的標(biāo)配。
SEA-X系列：在SEA系列基礎(chǔ)上，采用了更先進(jìn)的探測器和技術(shù)，分析速度更快，對(duì)微量元素的檢測能力更強(qiáng)。
Supermini系列：臺(tái)式波長色散XRF光譜儀，功能更強(qiáng)大，精度極的高，不僅可用于膜厚測量，還可進(jìn)行精確的元素成分分析，常用于研發(fā)中心和高的端質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室。

初始投資高：設(shè)備和后續(xù)的維護(hù)、校準(zhǔn)成本都比較高昂。
依賴校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片：為了獲得最高的絕對(duì)精度，需要使用經(jīng)過認(rèn)證的、已知厚度的標(biāo)準(zhǔn)片來建立校準(zhǔn)曲線。
對(duì)樣品形狀有要求：樣品需要相對(duì)平整，并能完的全覆蓋測量孔徑，否則會(huì)因散射和幾何位置偏差影響測量結(jié)果的準(zhǔn)確性。
無法區(qū)分元素化學(xué)態(tài)：只能測量元素的總量，無法區(qū)分其價(jià)態(tài)或化合物形態(tài)（例如，無法區(qū)分錫Sn和氧化錫SnO?）。

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